【导流分压式双正压净化工作台的设计和特点-国际云顶yd4008

导流分压式双正压净化工作台的设计和 特点

实验需求 

在高校的微电子、半导体物理实验中，光刻实验 是必不可少的实验之一。光刻实验对环境的洁净度要 求很高，一般高校在没有财力建设洁净室的情况下， 净化工作台成为了进行光刻实验不可缺少的必要设 备。一般来说光刻实验进行的步骤有：旋涂光刻胶； 光刻胶的前烘；曝光；显影；后烘等步骤构成。在这 些实验步骤中所涉及的化学药品较多，而这些化学药 品的溶剂多为苯类物质，如果处理不当将给实验人员 带来较大的伤害。同时，由于实验的步骤较多，实验 人员需要频繁地从净化工作台中取、放物品，这将引 入大量的灰尘影响工作时的洁净度。因此，设计一种 低成本，有效阻隔有毒气体，提高工作时洁净度的净 化工作台显得十分重要。 

导流分压式双正压净化工作台的结构设计 

基于以上的设计要求，一种新型的导流分压式双正 压净化工作台结构如图2所示。设计的具体思路如下：

在净化工作台的高效过滤器出风口与散流板 之间增加一个导流分压区。导流分压区的结构如图3 所示。导流分压区以高效过滤器出风口和散流板为上 下两个面，形成一个腔体，在两面之间用一块倾斜的 隔板将该腔体分为两个封闭的梯形区域，如图3中的a 和b所示。